产品名称: 硅片烧结回转窑 气氛回转炉 连续式回转烧结炉
一、概述
硅片烧结回转炉主要用于CVD实验,也运用于冶金,玻璃,热处理,锂电正负极材料,新能源,磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的专业设备。
二、型号规格
设备型号 炉膛尺寸(mm) 温度(℃) 额定功率(KW) 电压(V)
BLXG系列 φ120*2000-2500 1100-1600 8-16 380
BLXG系列 φ160*2500-3000 1100-1600 12-30 380
BLXG系列 φ220*2500-4000 1100-1600 15-40 380
BLXG系列 φ270*2500-5000 1100-1600 20-50 380
BLXG系列 φ320*2500-6000 1100-1600 30-60 380
BLXG系列 φ370*3000-7000 1100 30-70 380
BLXG系列 φ400*3000-8000 1100 40-80 380
注:回转窑炉可根据用户要求另行设计制造 |